株洲專業(yè)供應(yīng)高溫實驗爐

CVD（G）系列真空高溫管式爐專門設(shè)計用于高溫CVD工藝,如ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、氮化硅渡膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結(jié)等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫，國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱，優(yōu)質(zhì)剛玉管爐膛, 系統(tǒng)可預(yù)抽真空，氣體采用浮子流量計控制。進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制，設(shè)備具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長等特點(diǎn)，是理想的科研設(shè)備。 一、 技術(shù)指標(biāo)： 設(shè) 備 型 號 NT-CVD(G)-08/50/1 溫區(qū)最高溫度 1650℃；(最長恒溫時間：≥10小時)；常用溫度：1600℃ (最長恒溫時間：≥100小時) 加熱有效容積 Φ72（內(nèi)經(jīng)）×500mm;恒溫區(qū)尺寸：Φ72（內(nèi)經(jīng)）×250mm 爐管實際尺寸 Φ80（外徑）×1400mm （國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)剛玉管） 爐 膛 材 料 氧化鋁纖維制品 控制溫區(qū)點(diǎn)數(shù) 1個，1支B分度熱電偶 設(shè)備溫場溫差 ±1℃ ，日本島電進(jìn)口40段程序控制儀表(1只) 加 熱 元 件 優(yōu)質(zhì)硅鉬棒 最大加熱功率 12Kw